热带作物学报

作者：廖自月,林碧英,王悦,申宝营,钟路明

单位：福建农林大学园艺学院,福建福州 350002

关键词：黄瓜,光照强度,嫁接苗,愈合,质量

基金：福建省科技重大专项“福建设施蔬菜种质搜集及基因发掘、品种创新与产业化”(2018NZ0002-2),福建农林大学科技创新专项基金项目“环境因子对黄瓜嫁接苗愈合生长及幼苗质量影响“(CXZX2018085)

为探究黄瓜嫁接苗愈合及幼苗生长的最佳光照模式,本研究选择南瓜‘壮士’品种为砧木,黄瓜‘大棚冬青’品种为接穗,顶插嫁接后0~3、4~6、7~10 d为阶段性递增光照模式,以(0-30-45) μmol/(m2·s)为对照（CK）,设[(15-30-45)、(30-60-90)、(45-90-135)、(60-120-180)、(75-150-225) μmol/(m2·s)]分别为T1、T2、T3、T4和T5处理,研究不同梯度光照强度对黄瓜嫁接苗愈合生长及幼苗质量的影响。结果表明,与CK相比,嫁接后0~3 d适宜光照优于黑暗条件,光照强度梯度在处理T2~T5之间时,能显著提高接合部愈合效果（P<0.05）;其中T3处理最有利于黄瓜嫁接苗愈合及生长,其地上部、地下部形态生长指标最佳,最有利于促进黄瓜嫁接苗雌花分化和早熟;T3与T4处理幼苗真叶生长势较优,而T2与T3处理有利于嫁接苗光合色素含量的增加;运用隶属函数值法进行综合分析,各处理下隶属函数综合评价值大小排名为：T3>T2>T4>T5>T1>CK。综合分析得出,T3处理即嫁接后0~3、4~6、7~10 d的光强梯度为(45-90-135) μmol/(m2·s),最有利于黄瓜嫁接苗的愈合生长及幼苗质量的提高,故T3梯度光照强度可作为黄瓜嫁接苗愈合期处理的最适光强模式。

来源：2020年第4期

《热带作物学报》期刊编辑部

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